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典型镀膜方法的比较
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镀膜方法
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水镀
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PVD
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化学气相沉积（CVD）
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真空蒸发
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溅射镀膜
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离子镀
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可镀材料
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金属
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金属、化合物
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金属、合金、化合物、陶瓷、聚合物
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金属、合金、化合物
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金属、化合物
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镀覆机理
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电化学
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真空蒸发
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辉光放电、溅射
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辉光放电
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气相化学沉积
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结合力
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一般
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差
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好
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很好
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很好
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镀层质量
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可能有气孔、较脆
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可能不均匀
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致密、针孔少
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致密、针孔少
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致密、针孔少
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镀层纯度
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易含浴盐和气体杂质
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取决于原料纯度
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取决于靶材纯度
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取决于原料纯度
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易含杂质
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镀层均匀性
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平面均匀、边棱上不均匀
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会有差异
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较好
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好
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好
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沉积速率
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中等
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较快
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较快
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快
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较快
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镀覆复杂表面
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能镀，可能不均匀
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只能镀直射表面
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能镀全部表面，但非直射面附着差
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能镀全部表面
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能镀全部表面
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环境保护
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废液、废气需处理
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无
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无
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无
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废气需处理
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